ベースメイク

綾花 ブライト アップ ベース クリーム

綾花 ベースメイク

綾花 ブライト アップ ベース クリーム

¥ 1,500(税抜) サイズ : 30 g

しっとりなめらかなクリームが小ジワや色ムラによる肌かげりを補正して、くすみをトーンアップ。
ファンデーションのフィット感を高め、しっとりなめらか肌を保ちます。
化粧下地 紫外線吸収剤無配合 SPF25 PA++
  • 綾花 ブライト アップ ベース クリーム
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中身イメージ

 

全成分・分量表示

配合目的 表示名称 表示分量
着色成分 酸化チタン 適量
硫酸Ba 適量
マイカ 適量
酸化鉄 適量
シリカ 適量
油性エモリエント成分 シクロペンタシロキサン 27.97%
トリエチルヘキサノイン 5.00%
ジメチコン 4.40%
ジカプリン酸ネオペンチルグリコール 3.50%
ラウロイルグルタミン酸ジ(フィトステリル/オクチルドデシル) 1.00%
(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー 0.25%
ダイズ油 0.03%
保湿成分 BG 5.04%
DPG 0.02%
マグワ根皮エキス 適量
ビンロウ種子エキス 適量
マヨラナ葉エキス 適量
カンゾウ葉エキス 適量
サンスクリーン成分 酸化亜鉛 3.42%
感触改良成分 窒化ホウ素 2.00%
ナイロン−12 1.00%
皮膜形成成分 (アクリル酸アルキル/ジメチコン)コポリマー 0.30%
ポリクオタニウム−51 0.05%
乳化剤 PEG−9ジメチコン 2.40%
PEG‐9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン 1.50%
(ジメチコン/(PEG−10/15))クロスポリマー 0.84%
ポリグリセリル‐3ポリジメチルシロキシエチルジメチコン 0.30%
表面処理剤 水酸化Al 適量
ハイドロゲンジメチコン 適量
(ハイドロゲンジメチコン/オクチルシルセスキオキサン)コポリマー 適量
ステアロイルグルタミン酸2Na 適量
増粘剤 ジステアルジモニウムヘクトライト 1.00%
防腐剤 フェノキシエタノール 0.20%
メチルパラベン 0.20%
プロピルパラベン 0.05%
乳化安定剤 クエン酸Na 0.21%
製品の酸化防止剤 トコフェロール 0.07%
基剤 全量を100%とする

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